飞行器隐身测试用低散射塔架结构及其制造工艺

doi:10.16080/j.issn1671-833x.2009.04.020

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摘要根据目标支撑塔架的结构特点及基本性能要求，给出了一般制造工艺流程，详细论述了制造低散射塔架的完整工艺路线及具体措施，并分析了改善性能的基本原理。

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	焦洪杰
	陈五一
	张以都

关键词 ：紧缩场, 塔架, 低散射, 制造工艺

Abstract：Based on the structure characte-ristics and basic performance requirements of target support pylon, general manufacture technology process is presented. The concrete measure of target support pylon manufacture technology and whole craft course are discussed in detail and the basic law of improving performance is analyzed.

Key words： Compact range（CR） Pylon Low-scattering Manufacture technology

引用本文:

焦洪杰，陈五一，张以都. 飞行器隐身测试用低散射塔架结构及其制造工艺[J]. 航空制造技术, 2009, 52(4): 86-89.

链接本文:

http://www.amte.net.cn/CN/10.16080/j.issn1671-833x.2009.04.020 或 http://www.amte.net.cn/CN/Y2009/V52/I4/86

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